工业OTSUKA大塚 FE-5000 红外光谱椭偏仪
【ELSZneo将光散射法在物理性质评估领域
　　　　推向新高度】
ELSZ系列中的顶级型号ELSZneo，除了能够测量稀溶液到浓溶液中的zeta电位和粒径外，还能测量分子量

工业OTSUKA大塚 FE-5000 红外光谱椭偏仪 

工业OTSUKA大塚 FE-5000 红外光谱椭偏仪 

FE-5000系列光谱椭偏仪

除了能够进行高精度薄膜分析的光谱椭偏仪之外，该系统还集成了一个自动可变测量角度机构，使其能够处理所有类型的薄膜。此外，通过在传统的旋转分析器方法中增加一个自动相位差板安装/拆卸机构，测量精度得到了进一步提高。

可以在紫外-可见光波长范围（300-800 nm）内测量椭偏参数。

可以对纳米级多层薄膜的膜厚进行分析。

利用具有 400 多个通道的多通道光谱仪可以快速测量椭球光谱。

可变反射角测量能够对薄膜进行详细分析。

光学常数数据库和配方注册功能的加入提高了易用性。

测量项目

椭球参数（tanψ，cosΔ）的测量

光学常数分析（n：折射率，k：消光系数）

薄膜厚度分析

测量目标

半导体晶片栅氧化物

薄膜、氮化物薄膜SiO₂

、SiₓOᵧ 、 SiN、SiNₓ 、 Al₂O₃ 、 SiNₓOᵧ 、多晶硅、ZnSe、BPSG和TiN光刻胶的光学常数（ 波长色散）。

化合物半导体

Al x Ga (1-x)作为多层薄膜，非晶硅

FPD

定向膜

各种新材料：

类金刚石碳（DLC）、超导薄膜、磁头薄膜。

光学薄膜

TiO₂ 、SiO₂ 、抗反射涂层

在光刻领域中

，对不同波长的 N 和 K 进行评估 ，包括 g 线 (436nm)、h 线 (405nm) 和 i 线 (365nm)。

 原则

含有s波和p波的线偏振光入射到样品上，并测量反射光的椭圆偏振。s波和p波的相位和振幅独立变化，得到两个与样品相关的偏振变换参数：p波和s波反射率之比tanψ和相位差Δ。

tanψ 和 consΔ 被称为椭偏参数，在光谱椭偏仪中，测量这两个参数随波长变化的光谱。

 规格

规格

模型FE-5000系列

测量方法旋转分析仪法* 1

测量薄膜厚度范围（nd）0.1纳米至1微米

入射（反射）角范围45-90°

入射（反射）角驱动系统自动正弦杆驱动系统

tanψ测量精度±0.01 或更小

cosΔ测量精度±0.01 或更小

薄膜厚度的重复性0.01% 或更低* 2

波长范围* 3300-800纳米

测量光源高稳定性氙灯

舞台驱动系统手动/自动

*1 偏振器可驱动，相位差板可有效消除死区，并且可以安装和拆卸。

*2 数值适用于使用 VLSI 标准 SiO2 薄膜 (100nm)。

*3 数值适用于启用自动平台选择功能的情况。

我司代理及优势品牌一览明细：

代理品牌：CCS晰写速SEN日森、EYE岩崎、REVOX莱宝克斯、SERIC索莱克

SONIC索尼克、SANKO三高、NEWKON新光、HAYASHI 林时计、NPM日脉

NS日本科学、DRY-CABI东利繁、TOKISANGYO东机

SIBATA柴田、SUGIYAMA杉山、Kakuhunt写真化学、NIPPON GEAR日本齿轮

NIDEC尼得科、MIYACHI天田、TORAY 东丽  watson沃森  DIC迪爱生   INNODIS 一诺迪思  ARLIN艾阿尔

优势品牌：USHIO牛尾、TOPCON拓普康、TAKASAG代理O高砂、FUNATECH船越龙、ORC欧阿西

SAGADEN嵯峨、SAKAZUME坂诘、TORAY东丽、DNP大日本科研、TOKYO DENSHOKU电色、KKIMAC

S-VANS斯万斯、ORIHARA折原、LUCEO鲁机欧、HIKARIYA光屋、YAMADA山田光学

AND艾安得、T&D天特、JIKCO吉高、DKK-TOA东亚电波、OKANO冈野、ANRITSU安立计器

IMV艾目微、MITUTOYO三丰、KYOWA共和、ONOSOKKI小野、SANEI三荣、HEIDON新东科学KURABO仓纺、SHOWA昭和、THINKY新基、AIKOH爱光、SEM坂本电机

SURUGA骏、SANSYO三商、ITOH伊藤、NAGARISHI成茂、

RKC理化、MACOME码控美、EIWA荣和、EXCEL艾库斯、YODOGAWA淀川等

优势产品：日本紫外线照度计、紫外线装置灯管、LED视觉光源、表面检查灯、手持检测灯

变色灯箱、色差仪、卤素光源装置、氧气浓度计、焊接机、应力表面检查仪、LED光源机、电子天平、粘度计、膜厚计、恒流泵、采样泵、PH计、水分计、地震测试仪、脱泡搅拌机、压力传感器、气体检测仪、接近开关、拉拔机、异音检测仪、应变测试仪、拉针仪、水平测试仪等