工业OTSUKA大塚 ELSZneoSE 电位颗粒度仪
【ELSZneo将光散射法在物理性质评估领域
　　　　推向新高度】
ELSZ系列中的顶级型号ELSZneo，除了能够测量稀溶液到浓溶液中的zeta电位和粒径外，还能测量分子量

工业OTSUKA大塚 ELSZneoSE 电位颗粒度仪

工业OTSUKA大塚 ELSZneoSE 电位颗粒度仪

 Zeta电位和粒度测量系统ELSZneoSE NEW

本产品是一款专用于测量颗粒尺寸和zeta电位的仪器。ELSZneoSE

提供ELSZneo的新功能作为可选特性。您可以根据具体应用需求自定义这些功能。

可根据您的需要添加功能（分子量测量、颗粒浓度测量、微流变学测量、凝胶网络结构分析、多角度粒径测量）。

使用标准流动池可以连续测量粒径和zeta电位。

可以在很宽的浓度范围内测量颗粒尺寸和zeta电位，从稀溶液到浓溶液（高达40%）。

在高盐浓度下可以测量平面样品的zeta电位。

测量温度范围很广，从 0 到 90°C 均可进行。

温度梯度函数能够分析蛋白质和其他材料的变性和相变温度。

通过测量和绘制细胞内的电渗流，我们获得了高度精确的zeta电位测量结果。

可加装荧光滤光片（可选）。

目的

这非常适合对微粒、薄膜和片状样品等表面科学进行基础研究和应用研究，研究领域包括界面化学、无机材料、生命科学、半导体、聚合物、生物学、药学和医学。

新型功能材料领域：

燃料电池相关（碳纳米管、富勒烯、纤维素纳米纤维、功能膜、催化剂、纳米金属）、

生物纳米相关（纳米胶囊、树枝状聚合物、DDS、生物纳米颗粒）、纳米气泡、

生物相容性材料等。

陶瓷和着色剂行业：

的表面改性、分散和聚集控制

；颜料（炭黑、有机颜料）的分散和聚集控制；以及

浆状样品

和滤色片

中矿物浮选吸附的研究。

在半导体领域，

我们正在研究 异物粘附到硅晶片表面的机制

、磨料和添加剂与晶片表面的相互作用以及

 CMP 浆料。

聚合物和化学工业

研究 ：乳液（涂料和粘合剂）的分散和聚集控制，乳胶（医药和工业）的表面改性，聚合物电解质（聚苯乙烯磺酸盐、聚羧酸等）的功能，以及造纸工艺控制和

功能性纳米颗粒纸浆和纸浆

的纸浆添加剂研究。

控制制药和食品工业中乳液（食品、香料、医药和化妆品）的分散和聚集；

控制功能性脂质体和蛋白质囊泡的分散和聚集；以及控制表面活性剂（胶束）的功能。

 原则

粒度测量原理：动态光散射法（光子相关法）

溶液中的颗粒会进行布朗运动，其运动强度取决于颗粒大小。因此，当光照射到这些颗粒上时，散射光对于小颗粒表现出快速波动，对于大颗粒则表现出缓慢波动。

通过光子相关光谱法分析这些波动，可以确定颗粒的大小和粒径分布

。

分析流程

Zeta电位测量原理：电泳光散射法（激光多普勒法）

当对溶液中的粒子施加电场时，会观察到电泳现象，其取决于粒子的电荷。通过电泳速度，可以确定zeta电位和电泳迁移率。在电泳光散射中，用光照射电泳粒子，并通过散射光的多普勒频移来确定电泳速度。这种方法也称为激光多普勒法。

测量电渗流的优势

电渗流是指在zeta电位测量过程中，溶液在细胞内的流动。当细胞壁带电时，溶液中的反离子会聚集在细胞壁上。施加电场后，反离子会向相反方向的电极移动，并在细胞中心附近产生反向流动以补偿这种流动。通过测量颗粒的表观电泳迁移率并分析电渗流，可以确定正确的静止表面，并考虑细胞污染（例如样品的吸附和沉降）的影响，从而计算出真实的zeta电位和电泳迁移率。（参见Mori和Okamoto公式）

Mori 和 Okamoto 公式

z：距电泳槽中心的距离；

Uobs(z)：电泳槽中位置 z 处的表观迁移率；

A = 1/[(2/3) - (0.420166/k)]；

k = a/b：2a 和 2b 分别为电泳槽横截面的水平和垂直长度，其中 a > b；

Up：粒子的真实迁移率

；U0：电泳槽上下壁的平均迁移率；ΔU0

：电泳槽上下壁迁移率之差

电渗流在多组分分析中的应用

ELSZ 系列测量细胞内多个点的表观电泳迁移率，从而可以验证 zeta 电位分布的重现性并识别测量数据中的噪声峰。

应用于平面细胞

该平板池的结构允许将平板样品紧密地附着在盒状石英池的顶面上并集成其中。在池的深度方向上，测量监测粒子在各层级的表观电泳迁移率，并根据获得的电渗剖面分析固液界面处的电渗流速度，从而确定平板样品表面的zeta电位。

浓缩样品zeta电位测量原理

对于浓度 颜色较深、透光性差的样品，由于多重散射和吸收的影响，使用ELS系列仪器进行测量较为困难。

目前，ELSZ系列的标准样品池可以测量从稀薄到浓稠的各种样品。此外，对于浓度更高的样品，现在可以使用采用FST方法*的浓缩样品池进行zeta电位测量。