otsuka大塚电子 FE-5000 多功能光谱椭偏仪
除了能够进行高精度薄膜分析的光谱椭偏仪之外，该系统还配备了自动可变测量角度机构，使其适用于所有类型的薄膜。除了传统的旋转分析器方法之外，该系统还配备了自动延迟板安装/拆卸机构，从而提高了测量精度。

otsuka大塚电子 FE-5000 多功能光谱椭偏仪

otsuka大塚电子 FE-5000 多功能光谱椭偏仪

除了能够进行高精度薄膜分析的光谱椭偏仪之外，该系统还配备了自动可变测量角度机构，使其适用于所有类型的薄膜。除了传统的旋转分析器方法之外，该系统还配备了自动延迟板安装/拆卸机构，从而提高了测量精度。

 产品信息

特征

能够测量紫外-可见光波长范围（300至800纳米）内的椭偏参数

能够分析纳米级多层薄膜的厚度。

利用具有超过 400 个通道的多通道光谱仪快速测量椭偏光谱

可变角度反射测量能够对薄膜进行详细分析。

新增光学常数数据库和配方注册功能，提高了操作性。

测量项目

椭偏参数（tanψ，cosΔ）测量

光学常数（n：折射率，k：消光系数）分析

薄膜厚度分析

测量目标

半导体晶片栅极

氧化层薄膜、氮化物薄膜（SiO₂

、SiₓOᵧ 、 SiN、SiON、SiNₓ、Al₂O₃、SiNₓOᵧ）、多晶硅、ZnSe 、 BPSG、TiN光刻胶 的光学常数（波长色散）

化合物半导体

Al x Ga (1-x)作为多层薄膜，非晶硅

FPD

对准膜

各种新型材料，

例如类金刚石碳（DLC）、超导薄膜、磁性薄膜

光学薄膜

TiO₂ 、SiO₂ 、抗反射涂层

光刻领域：

对每个波长进行 n 和 k 值评估，例如 g 线 (436 nm)、h 线 (405 nm) 和 i 线 (365 nm) 。

 原则

含有s波和p波的线偏振光入射到样品上，并测量反射光的椭圆偏振光。s波和p波的相位和振幅独立变化，因此可以获得p波与s波反射率之比（tanψ）和相位差（Δ），这两个参数是两种偏振类型之间的转换参数，且与样品有关。

 规格

规格

模型FE-5000系列

测量方法旋转分析仪法* 1

测量薄膜厚度范围（nd）0.1纳米至1微米

入射（反射）角范围45至90度

入射（反射）角驱动方法自动正弦杆驱动系统

tan ψ 测量精度±0.01 或更小

cosΔ测量精度±0.01 或更小

薄膜厚度的重复性0.01% 或更低* 2

波长范围* 3300至800纳米

测量光源高稳定性氙灯

舞台驱动系统手动/自动

*1 偏振器可驱动，并配有可拆卸式延迟器用于消除死区。

*2 使用 VLSI 标准 SiO2 薄膜（100 nm）时的数值。

*3 选择自动载物台时的数值。