otsuka大塚电子 OPTM-A3 显微薄膜厚度计
OP™（Optimum）是一款利用显微光谱技术测量微观区域绝对反射率的仪器，能够高精度地分析薄膜厚度和光学常数。它可以

无损、非接触地测量各种薄膜、晶圆、光学材料等表面涂层和多层膜的厚度。其测量速度极快，每点测量仅需1秒。此外，它还配备了配套软件，即使是初学者也能轻松分析光学常数。

otsuka大塚电子 OPTM-A3 显微薄膜厚度计

otsuka大塚电子 OPTM-A3 显微薄膜厚度计

OP™（Optimum）是一款利用显微光谱技术测量微观区域绝对反射率的仪器，能够高精度地分析薄膜厚度和光学常数。它可以

无损、非接触地测量各种薄膜、晶圆、光学材料等表面涂层和多层膜的厚度。其测量速度极快，每点测量仅需1秒。此外，它还配备了配套软件，即使是初学者也能轻松分析光学常数。

特征

所有薄膜厚度测量所需的功能都集成在主机中。

利用显微光谱技术进行高精度绝对反射率测量（多层膜厚度、光学常数）

高速测量，每点测量时间仅需1秒

可在显微镜下实现宽测量波长范围（紫外到近红外）的光学系统

区域传感器安全机制

简易的分析向导，即使是初学者也能轻松分析光学常数

配备宏功能，可自定义测量序列

也可以分析复杂的光学常数（多点分析法）。

兼容300mm舞台

支持多种自定义选项

规格

规格

类型OPTM-A1OPTM-A2OPTM-A3

波长范围230至800纳米360至1100纳米900至1600纳米

薄膜厚度范围*11纳米至35微米7纳米至49微米16纳米至92微米

样本量*2 尺寸 200 x 200 x 17 毫米

斑点直径φ5、φ10、φ20、φ40 微米

*以上规格包含自动XY平台。

*1 薄膜厚度范围按SiO2计算。

*2 有关 300 毫米平台的问题，

类型自动XY平台类型固定框架类型内置式头部

尺寸

（宽 x 深 x 高）556×566×618 毫米368×468×491毫米210×441×474 毫米

90×250×190 毫米*

重量66公斤38公斤23公斤

4公斤*

最大功耗交流100V±10V 500VA交流100V±10V 400VA

*交流/直流电源单元

测量项目

测量项目

反射率测量

薄膜厚度分析

光学常数分析（n：折射率，k：消光系数）

SiO₂SiN薄膜厚度测量

半导体晶体管通过控制电流来传输信号，但为了防止电流泄漏或另一个晶体管的电流流经意外路径，晶体管之间嵌入了一层绝缘膜。二氧化硅 (SiO2) 和氮化硅 (SiN) 常用作绝缘膜。SiO2用作绝缘膜，而 SiN 则用作介电常数高于 SiO2 的绝缘膜，或者在采用化学机械抛光 (CMP) 去除多余的 SiO2 时作为阻挡层，之后 SiN 也会被去除。因此，必须测量这些薄膜的厚度，以评估其作为绝缘膜的性能并实现精确的工艺控制。