原厂 ADVANCE RIKO先进理工 桌面灯加热装置
该设备是现有红外加热设备RTP-6的紧凑型桌面版本。
它取消了传统的排气装置，并采用了冷却风扇，从而降低了噪音，实现了高效冷却和安静加热。

原厂 ADVANCE RIKO先进理工 桌面灯加热装置

原厂 ADVANCE RIKO先进理工 桌面灯加热装置

 MILA-5000系列具备红外金成像炉 的高速加热和冷却能力，以及洁净的加热特性。它可在多种大气条件下进行加热，是一款结构紧凑、成本低廉的红外灯加热设备，集成温度控制器和可变气氛腔。

加热操作可通过USB接口连接至PC进行控制，方便数据管理。

目的

铁电薄膜的晶体退火

离子注入后的扩散退火和氧化膜形成退火

硅和化合物晶片烧结和合金化工艺

玻璃基板的均匀热退火

热循环、热冲击、热疲劳测试

用于温升退化试验的加热炉

催化效率测试

特征

可以选择真空、气体、气流、空气以及任何其他气氛。

精确的温度控制

桌面型，设计紧凑

温度程序设置和外部信号输入均可通过电脑轻松完成。

可以在电脑上显示加热过程中的温度数据。

规格

模型

MILA-5000-PF

（均匀加热型）

MILA-5000-PN

（高温型）

MILA-5000UHV

（高温/高真空型）

温度范围

室温 ~ 800℃

室温 ~ 1200℃

室温 ~ 1000℃

样品尺寸

正方形，边长 20 毫米，厚度 2 毫米

加热气氛

在空气、低真空和惰性气体中

在空气中、在高真空中、在惰性气体中

工艺压力

10 Pa 至大气压（使用 RP *1，室温，空载）

10⁻⁴ Pa 到大气压（使用 TMP *1 ，室温，空载）

*1：真空排气系统为可选配置。

*2：加热温度取决于被加热物体的红外反射/吸收率、比热容和材料。

示例选项

用于样品观察的CCD相机单元

在加热过程中观察样品。

通过连接CCD相机单元进行样品观察，可以在计算机上捕捉样品在加热过程中的变化。

电阻测量单元

热处理过程中电阻率的测量

只需将现有装置替换为电阻测量装置，并将其连接到您现有的数字万用表，即可在加热时测量电阻率。

液氮雾快速冷却装置

通过喷洒液氮雾快速冷却。

它能在短短 2 秒内从 1000°C 迅速冷却到 0°C。

高温型

MILA5000-PN 型号最大加热速度

样品：宽 20 x 长 20 x 厚 0.5 (mm) 镍板

气氛：真空

额定值：200V 4kW 100% 输出

MILA5000-PN型温度分布

样品：W20×L20×t0.5 (mm) 镍板

气氛：真空

TC(K)测量点

均匀加热型

MILA5000-PF 型号最大加热速度

样品：W20 x L20 x t0.5 (mm) 镍板

气氛：真空

额定值：200V 1kW 100% 输出

MILA5000-PF 型温度分布

仪样品：W20×L20×t0.5 (mm) 镍板；

气氛：氮气；

温度 (K) 测量点

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