英福康INFICON 质谱仪 Transpector® SPS
. QMG 800
质谱仪QMG 800
以 的灵敏度、精确度和 分析能力挑战极限

英福康INFICON 质谱仪 Transpector® SPS 

英福康INFICON 质谱仪 Transpector® SPS 

Transpector® SPS

质谱仪Transpector® SPS

INFICON Transpector® 单压取样 (SPS) 残余气体分析仪为目标高压过程提供最佳半导体晶圆和显示屏面板保护。凭借适合单压应用的最敏感空气泄漏和过程污染检测，Transpector SPS 可 减少晶圆和面板报废。它具有 的检测限值和测量速度，确保晶圆和面板产品的质量和数量。Transpector SPS 提供 的过程监控，确保实现稳定的高压过程，进而 提高过程能力和产量。该仪器融合了简单且高成本效益的入口系统与经实践验证的离子源和泵组，以提供低风险、 的气体分析解决方案。Transpector SPS 是一种经过验证的解决方案，适用于真空电弧重熔 (VAR) 等冶金和热处理应用，且是一般真空和工业应用的理想之选。Transpector SPS 可根据具体应用和预算进行配置和定制。 针对从 1E-4 Torr 到大气的取样过程压强，均可选用标准孔板、劈刀和旁路线组合。耐腐蚀入口、离子源和泵组的设计可确保在蚀刻、CVD、ALD 和其他腐蚀性气体过程中的耐受性。

好处

得益于单压取样入口， 降低晶圆和面板保护的总拥有成本；是扩散、外延和 RTP 等高压 过程的理想之选

提供 漏气量和污染监测，确保恒定高压过程

通过 强大数据采集与同步实现无缝工厂集成和可靠阻断

通过定制 配方优化增强 生产能力

通过即时现场专家响应保护关键过程需求

典型应用

PVD processesPVD 过程

扩散和外延过程

蚀刻过程包括：金属、电介质、硅刻蚀, HDP-etch

CVD 过程包括：高 k 电介质、HDP-CVD、LP-CVD、SA-CVD、CVD 低 k、PE-CVD

技术规格

100 AMU SPS

200 AMU SPS

300 AMU SPS

总压力范围 5E-7 to 1E-3 Torr (6.6E-7 to 1.3E-3 mbar) 

  检测限值 <1 ppm 

  系统工作压力（带孔板/劈刀） 1E-4 Torr to 1.2 atmospheres 

  灵敏度（@ 低发射、FC 模式） >4.0E-6 amps/Torr (>3E-6 amps/mbar) 

  灵敏度（@ 高发射、FC 模式） >2.0E-5 amps/Torr (>1.5E-5 amps/mbar) 

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手册

手册

该产品被用于以下市场

分析仪器

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从电极生产到生产线终端EOL终端的测试

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显示器

INFICON汇聚 科技，实现*高质量的显示器产品

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能源

传统的石油和天然气生产在过去几十年中出现了需求的增长，并被发展中国家的人口增长、城市化和中产阶级的消费所推动。

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真空镀膜市场远远超出了光学领域，正在迅速扩展到十年前几乎无法想象的领域、行业和薄膜层。

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了解我们使用 Transpector 进行的研

我司代理及优势品牌一览明细：

代理品牌：CCS晰写速  SEN日森、EYE岩崎、REVOX莱宝克斯、SERIC索莱克

SONIC索尼克、SANKO三高、NEWKON新光、HAYASHI 林时计、NPM日脉

NS日本科学、DRY-CABI东利繁、TOKISANGYO东机

SIBATA柴田、SUGIYAMA杉山、Kakuhunt写真化学、NIPPON GEAR日本齿轮

NIDEC尼得科、MIYACHI天田、TORAY 东丽 watson沃森  RIYYO理阳

Düsen-德国 Schlick AMETEK-LAND兰德 Advantec 东洋 Eppendorf艾本德 OPTOSKY奥谱天成

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